無錫冠亞TCU高低溫循環(huán)裝置在化工行業(yè)中反應釜的隔離防爆可定制，根據(jù)用戶要求在低溫與制冷量，低溫與容器量之間合理搭配，可以滿足不同用戶的實際需要。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置的主要作用就是對反應釜的溫度進行控制，提高傳熱效率，可滿足高工藝標準的嚴格要求，閉循環(huán)供熱，熱量損失小，使用范圍廣。

　　關于冷卻盤管的裝置的取向，裝置通常在反應器內(nèi)部以降低反應中材料的溫度，并且當材料粘度大或線圈需要混合模式時可以放置在外面：在介質(zhì)用作加熱熱源的情況下，冷卻盤管可以放置在介質(zhì)中，電阻絲的加熱取決于具體情況，但應考慮加熱作用和冷卻效果。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置采用智能PLC、PC級微電腦控制系統(tǒng)，可遠程及操作，具有自動加卸載，定時開關機及故障原因分析、實時記錄和顯示數(shù)據(jù)，并繪制曲線圖，數(shù)據(jù)自動保存。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置根據(jù)所需冷卻液體積來選擇循環(huán)泵型號，當然，容量越大價、溫度越低，價格也就越高。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置根據(jù)實驗需要溫度不同，選用相應溫控范圍的低溫泵。溫度越低，泵的價格越高，TCU高低溫循環(huán)裝置低溫可達-120℃。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置實驗溶液否有腐蝕性，如果是強酸/堿類型溶液則需要選購耐腐蝕的TCU高低溫循環(huán)裝置。

化工工業(yè)中，反應釜是整個化工環(huán)節(jié)的關鍵，而溫度冷卻又成為了反應需要的條件，關系到整個成品生產(chǎn)質(zhì)量。通過冷卻盤管選擇TCU高低溫循環(huán)裝置，冷卻盤管配有冷卻入口和出口，冷卻水，制冷劑和外部循環(huán)冷卻劑。