TCU-無錫冠亞plc溫度控制系統ZLF-50N

TCU-無錫冠亞plc溫度控制系統ZLF-50N

　　plc溫度控制系統提供了人機界面控制反應釜溫度循環系統，所述的循環系統包括，反應釜和制冷設備，所述的反應釜和制冷設備之間通過循環管道相連接成密閉的循環系統，循環管道內流動有冷卻水，所述的反應釜的溫度是由冷凍水的溫度來控制的，所述的制冷設備還連接有人機界面控制裝置。本實用新型揭示的人機界面控制反應釜溫度循環系統，安全可靠，降溫效率高，有效控制了溫度過高的現象，冷凍水可循環利用，節約了大量的水資源，用人機界面控制裝置進行操作，減輕了操作工人勞動強度，方便，省力，操作方便等優點。

plc溫度控制系統配套的化學反應釜反應釜是一種典型的大慣性、滯后性系統,控制起來非常困難。以反應溫度作為被控參數,采用上、下位機結合的整體方案和動態PID溫度控制算法。plc溫度控制系統配套的化學反應釜是化工生產中一類非常重要的反應器，其化學反應機理較為復雜，如外界條件、原料純度、催化劑的類型、原料添加數量的變化、循環水、熱水或加熱蒸汽溫度、流量的變化等，對系統的影響較大，使系統本身具有較大的時變性、非線性、時滯性。由于化學反應過程中如轉化率等過程參數的測量方法非常復雜，所以控制反應溫度成為一種行之有效的控制產品質量的方法。針對仿人智能控制和模糊控制的特點，提出了一種新型變論域模糊仿人智能控制器，并采用模糊分配完成“切換’保證兩種控制的平穩過渡，實現了兩種控制器的優勢互補和控制性能的明顯改進。