TCU-無錫冠亞反應釜控制ZLF-50NSH

TCU-無錫冠亞反應釜控制ZLF-50NSH

　　反應釜作為制藥生產中實現化學反應的主要設備,在實際的化學合成反應過程中,溫度是工業生產中常見的工藝參數之一,任何物理變化和化學反應過程都與溫度密切相關。反應釜的溫度控制-反應釜控制ZLF-50NSH占有著較為重要的地位。從傳統的手動控溫逐漸轉變為自動控溫,隨著制藥行業水平的不斷提高,對生產所需的各種設備、儀器儀表的要求也在不斷的提高。自動溫度控制模塊(以下稱溫控單元)是指通過外界提供的冷源和熱源對各種設備如反應釜、干燥箱等實現溫度的自動控制。

　　在實際化工生產過程中,反應釜的溫度會影響化工產品的生產質量,在很大程度上生產,也在一定程度上影響安全的化學過程。因此如何反應的化學反應器溫度控制準確,,就變得越來越重要。

反應釜控制ZLF-50NSH針對在化學反應釜內進行溫度控制的不確定滯后導致的控制困難,采用一種模糊PID控制算法。算法利用PLC的系統功能進行實現。系統充分利用了PLC控制系統靈活、可靠、抗干擾能力強等特點?，F場運用結果表明系統較好消除了時變時滯對控制的影響,具有較好的魯棒性。