產(chǎn)品中心

相關(guān)文章

產(chǎn)品中心

首頁 > 產(chǎn)品中心 > 制冷加熱控溫系統(tǒng) > 制冷加熱循環(huán)機(jī) > 原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

簡要描述：【無錫冠亞】原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置 ,應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

產(chǎn)品型號(hào)：SUNDIZ4-5W
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-01-17
訪問量：719

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

詳情介紹

品牌	冠亞制冷	價(jià)格區(qū)間	10萬-20萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合

原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于：

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制

SUNDI詳情頁_02.jpg

SUNDI詳情頁_03.jpg

SUNDI詳情頁_04.jpg

SUNDI詳情頁_05.jpg

SUNDI詳情頁_06.jpg

型號(hào)

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃～+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4～20mA或通信給定（默認(rèn)PT100)

溫度反饋

設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度（外接溫度傳感器）三點(diǎn)溫度

導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應(yīng)物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

流量壓力 max

L/min bar

2.5

壓縮機(jī)

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī)

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄

安全防護(hù)

具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過載保護(hù)；高壓壓力開關(guān)，過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙蜏刈詣?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風(fēng)）cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風(fēng)) cm

45*110*130

55*120*170

正壓防爆(水）cm

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風(fēng)冷尺寸cm

50*68*145

SUNDI詳情頁_07.jpg

原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

　　Chiller，即冷卻裝置或冷水機(jī)，是一種通過制冷劑循環(huán)來降低環(huán)境溫度的設(shè)備，在工業(yè)生產(chǎn)中，Chiller因其多種特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，包括電子、制藥、化工、醫(yī)藥以及半導(dǎo)體等。

　　濃縮是工業(yè)生產(chǎn)中的環(huán)節(jié)之一，它通過將溶液中的溶劑部分去除，從而提高溶液中溶質(zhì)的濃度。在濃縮過程中，離不開溫度的控制。如果溫度過高，可能會(huì)導(dǎo)致溶質(zhì)變性；而如果溫度過低，則可能降低濃縮效率。因此，濃縮過程需要控制溫度的參與。

　　Chiller正是配套溫度控制。通過制冷劑的循環(huán)流動(dòng)，將熱量從需要冷卻的介質(zhì)中帶走，并排放到環(huán)境中，從而實(shí)現(xiàn)溫度的控制。在濃縮過程中，Chiller可以將溶液的溫度控制在一定范圍內(nèi)，從而確保濃縮過程的順利進(jìn)行。

　　具體來說，Chiller在濃縮中的應(yīng)用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

　　1、Chiller可以通過調(diào)節(jié)制冷劑的流量和壓力，控制溶液的溫度。這種溫度控制有助于防止溶質(zhì)在濃縮過程中發(fā)生變性，從而確保產(chǎn)品的質(zhì)量。

　　2、在濃縮過程中，適當(dāng)?shù)臏囟瓤梢约铀偃軇┑恼舭l(fā)，從而提升濃縮效率。Chiller可以根據(jù)實(shí)際需要，將溶液的溫度調(diào)節(jié)到適當(dāng)狀態(tài)，從而加速溶劑的蒸發(fā)，縮短濃縮時(shí)間。

　　3、Chiller可以根據(jù)不同的濃縮需求和工藝條件進(jìn)行定制和優(yōu)化，適用于各種規(guī)模的濃縮系統(tǒng)。這使得Chiller在濃縮領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。

　　除了以上幾點(diǎn)外，Chiller在濃縮過程中還可以與其他設(shè)備配合使用，如蒸發(fā)器、冷凝器等，共同構(gòu)成一個(gè)完整的濃縮系統(tǒng)。這種系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)對溶液溫度、壓力、流量等多個(gè)參數(shù)的控制，從而提升濃縮過程的自動(dòng)化程度。

Chiller在濃縮過程中可以控制溶液的溫度，提升濃縮效率，還可以實(shí)現(xiàn)廣泛的應(yīng)用。隨著科技和工業(yè)生產(chǎn)的不斷發(fā)展，Chiller在濃縮領(lǐng)域的應(yīng)用將會(huì)越來越廣泛。

SUNDI詳情頁_08.jpg